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下一代芯片用什么半導(dǎo)體材料?專家:未來方向必然是寬禁帶半導(dǎo)體
來源:互聯(lián)網(wǎng)   發(fā)布日期:2023-11-23 18:00:53   瀏覽:4574次  

導(dǎo)讀:【環(huán)球時(shí)報(bào)記者 冷舒眉 曹思琦 環(huán)球時(shí)報(bào)特約記者 陳山】伴隨著新能源、5G、人工智能等新技術(shù)的爆發(fā)式發(fā)展,全球?qū)诟哔|(zhì)量半導(dǎo)體材料的芯片需求猛增。而美國近年來試圖在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?qū)χ袊ú弊,更讓中國民眾?duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)注度空前高漲。近日,華...

【環(huán)球時(shí)報(bào)記者 冷舒眉 曹思琦 環(huán)球時(shí)報(bào)特約記者 陳山】伴隨著新能源、5G、人工智能等新技術(shù)的爆發(fā)式發(fā)展,全球?qū)诟哔|(zhì)量半導(dǎo)體材料的芯片需求猛增。而美國近年來試圖在半導(dǎo)體芯片領(lǐng)域?qū)χ袊?ldquo;卡脖子”,更讓中國民眾對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的關(guān)注度空前高漲。近日,華為公司與哈爾濱工業(yè)大學(xué)聯(lián)合申請(qǐng)的“一種基于硅和金剛石的三維集成芯片的混合鍵合方法”專利公布,引發(fā)了科技界的廣泛關(guān)注。事實(shí)上,在新一代半導(dǎo)體材料領(lǐng)域,各國也都在紛紛發(fā)力。

金剛石半導(dǎo)體優(yōu)勢有多大

專利材料顯示,華為公司與哈爾濱工業(yè)大學(xué)聯(lián)合申請(qǐng)的這項(xiàng)發(fā)明專利實(shí)現(xiàn)了以Cu/SiO2混合鍵合為基礎(chǔ)的硅/金剛石三維異質(zhì)集成。外界分析稱,這一技術(shù)的突破之處在于,它成功地將硅和金剛石這兩種性質(zhì)迥異的材料結(jié)合在一起,開創(chuàng)了芯片制造領(lǐng)域的新思路。新興技術(shù)的不斷發(fā)展,對(duì)芯片性能的要求越來越高,傳統(tǒng)的硅基芯片雖然在一定程度上滿足了這些需求,但在某些特定領(lǐng)域如高功率、高溫等環(huán)境下仍存在一定的局限性。而金剛石作為具有優(yōu)異熱學(xué)、電學(xué)和力學(xué)性能的材料,被認(rèn)為是下一代芯片的理想選擇之一。

在金剛石薄膜上制造的半導(dǎo)體器件

對(duì)于金剛石半導(dǎo)體寄予厚望的還有日本!度毡窘(jīng)濟(jì)新聞》網(wǎng)站稱,日本初創(chuàng)企業(yè)OOKUMA公司計(jì)劃將被稱為“終極半導(dǎo)體”的金剛石半導(dǎo)體推向?qū)嵱没,最早將?026年度投產(chǎn)。報(bào)道稱,日本佐賀大學(xué)的研究表明,與現(xiàn)在主流的硅基半導(dǎo)體相比,金剛石半導(dǎo)體可在5倍的高溫和33倍的高電壓下工作。性能也比常見的第三代半導(dǎo)體碳化硅和氮化鎵出色。這種特性讓它有望用于更高電壓環(huán)境下的純電動(dòng)汽車、高速通信及衛(wèi)星通信等領(lǐng)域。

報(bào)道稱,OOKUMA公司生產(chǎn)的金剛石半導(dǎo)體器件將首先用于福島第一核電站的核廢料處理。為查看和清理福島第一核電站堆芯熔毀后留下的熔融燃料,只有耐受極高輻射強(qiáng)度的機(jī)器人才能勝任。但普通半導(dǎo)體器件在這種極端環(huán)境下的壽命非常短,而OOKUMA公司發(fā)現(xiàn),金剛石半導(dǎo)體器件在450攝氏度的高溫和輻射強(qiáng)度極高的惡劣環(huán)境下也能正常工作。此外,為保護(hù)半導(dǎo)體器件免受強(qiáng)輻射和高溫環(huán)境的影響,原本需要用沉重的鉛包裹機(jī)器人的核心部分,并配備專門的冷卻裝置,而配備金剛石半導(dǎo)體后,就可以省去這些裝置,從而減輕機(jī)器人重量,提高工作效率。OOKUMA公司計(jì)劃以處理核電站廢堆為契機(jī)量產(chǎn)金剛石半導(dǎo)體。為力爭應(yīng)用于衛(wèi)星通信,該公司與三菱電機(jī)等啟動(dòng)了聯(lián)合研究。年內(nèi)還將與日本廠商推進(jìn)用于純電動(dòng)汽車器件的開發(fā)。

第三代半導(dǎo)體材料高速發(fā)展

金剛石半導(dǎo)體是如今備受關(guān)注的第三代半導(dǎo)體材料之一。西北工業(yè)大學(xué)深圳研究院博士后李穎銳對(duì)《環(huán)球時(shí)報(bào)》記者介紹說,半導(dǎo)體是一系列常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料的總稱,常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等。半導(dǎo)體的導(dǎo)電性具有可控性,可以通過添加雜質(zhì)(摻雜)或改變溫度來調(diào)整其導(dǎo)電性能。運(yùn)用半導(dǎo)體材料的特點(diǎn),能夠制作出通過一個(gè)端口的電壓或電流控制另一個(gè)端口電壓或電流的半導(dǎo)體器件晶體管。將晶體管與電阻、電容以及其他無源器件的元件相互連接,就形成了一個(gè)集成電路。而芯片的本質(zhì)是在半導(dǎo)體襯底上(也稱作“晶圓”)制作能實(shí)現(xiàn)一系列特定功能的集成電路。

據(jù)介紹,第一代半導(dǎo)體材料是指硅、鍺為代表的元素半導(dǎo)體材料,應(yīng)用極為普遍,目前90%以上的半導(dǎo)體產(chǎn)品是用硅基材料制作的;第二代半導(dǎo)體材料是以砷化鎵、磷化銦為代表的化合物材料。李穎銳認(rèn)為,從材料的角度說,未來發(fā)展方向必然是寬禁帶半導(dǎo)體。禁帶寬度是半導(dǎo)體的一個(gè)重要特征參量,其大小主要決定于半導(dǎo)體的能帶結(jié)構(gòu),即與晶體結(jié)構(gòu)和原子的結(jié)合性質(zhì)等有關(guān)。禁帶寬度決定了半導(dǎo)體在不同溫度和電場下的導(dǎo)電性能,寬禁帶半導(dǎo)體能夠在更高的溫度、電壓和頻率下運(yùn)行,從而降低損耗、提高效率,這一優(yōu)勢對(duì)于新能源汽車和5G通信、航天航空和軍事系統(tǒng)等領(lǐng)域尤其重要,也可以應(yīng)用于更復(fù)雜的環(huán)境。寬禁帶半導(dǎo)體一般被稱作第三代半導(dǎo)體,主要包括碳化硅、氮化鎵、氧化鋅、金剛石、氮化鋁等,優(yōu)點(diǎn)是禁帶寬度大(>2.2ev)、擊穿電場高、熱導(dǎo)率高、抗輻射能力強(qiáng)、發(fā)光效率高、頻率高,可用于高溫、高頻、抗輻射及大功率器件,也是目前各國大力發(fā)展的新型半導(dǎo)體器件。

氮化鎵晶圓

例如已開始廣泛應(yīng)用的碳化硅半導(dǎo)體器件,相比第一代和第二代半導(dǎo)體材料,擁有良好的耐熱性、耐壓性和極低的導(dǎo)通能量損耗,是制造高壓功率器件與高功率射頻器件的理想材料。而另一種開始大規(guī)模普及的氮化鎵材料,可以顯著增強(qiáng)半導(dǎo)體的性能和設(shè)計(jì)。與其他材料相比,它可以在更高的頻率下以更高的效率支持更高的增益。氮化鎵具備出色的熱性能以及更高的擊穿電壓,這使得設(shè)計(jì)和制造體積更孝更薄,又不會(huì)影響功耗、可靠性或安全性的半導(dǎo)體材料成為可能。在萬物互聯(lián)的5G物聯(lián)網(wǎng)時(shí)代,這是不容忽視的優(yōu)勢。

新興材料日益獲得關(guān)注

除了第三代半導(dǎo)體材料外,還有更多的新興材料也日益獲得關(guān)注。2023年的諾貝爾化學(xué)獎(jiǎng)被授予“發(fā)現(xiàn)和合成量子點(diǎn)”的三名科學(xué)家。所謂量子點(diǎn)是一類微小顆;蚣{米晶體,即直徑在2-10納米之間的半導(dǎo)體材料,是導(dǎo)帶電子、價(jià)帶空穴及激子在三個(gè)空間維度上束縛住的半導(dǎo)體納米結(jié)構(gòu)。除了在顯示和照明領(lǐng)域的應(yīng)用外,諾貝爾化學(xué)獎(jiǎng)委員會(huì)稱,未來量子點(diǎn)還有望在量子計(jì)算、柔性電子產(chǎn)品、微小傳感器、更薄的太陽能電池等領(lǐng)域做出貢獻(xiàn)。

此外,石墨烯等二維材料在半導(dǎo)體領(lǐng)域的應(yīng)用也受到廣泛研究。石墨烯是一個(gè)由單層碳原子組成的二維材料,它具有出色的電子遷移率和熱導(dǎo)率。這種材料的獨(dú)特性質(zhì)為未來的電子設(shè)備提供了新的可能性,如超快速的傳輸器件和高度集成的傳感器。

下一代芯片需要半導(dǎo)體材料的突破式發(fā)展。

除了材料外,通過其他方面的技術(shù)突破,也有望進(jìn)一步推動(dòng)半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步。李穎銳研究團(tuán)隊(duì)近期推出了新一代半導(dǎo)體光子計(jì)數(shù)成像系統(tǒng),打破了國外的技術(shù)封鎖,空間分辨率由毫米級(jí)提升到微米級(jí),實(shí)現(xiàn)了真正意義的彩色成像。這背后主要依托于團(tuán)隊(duì)對(duì)影響光子計(jì)數(shù)應(yīng)用的三大技術(shù)進(jìn)行了突破,其中包含晶體材料、ASIC專用讀出芯片、多能譜成像算法,在晶體解決方案領(lǐng)域達(dá)到了國際上的先進(jìn)水平。

面臨摩爾定律增速放緩等難題,清華大學(xué)自動(dòng)化系戴瓊海院士團(tuán)隊(duì)近日提出了一種“掙脫”摩爾定律的全新計(jì)算架構(gòu):光電模擬芯片。視覺任務(wù)中實(shí)測,其算力達(dá)到目前高性能商用芯片的3000余倍。研究團(tuán)隊(duì)在接受《環(huán)球時(shí)報(bào)》記者采訪時(shí)介紹稱,全新的計(jì)算框架從最本質(zhì)的物理原理出發(fā),結(jié)合了基于電磁波空間傳播的光計(jì)算,與基于基爾霍夫定律的純模擬電子計(jì)算,“掙脫”傳統(tǒng)芯片架構(gòu)中數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換速度、精度與功耗相互制約的物理瓶頸,在一枚芯片上突破了大規(guī)模計(jì)算單元集成、高效非線性、高速光電接口三個(gè)難題。

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